Přehled

Mikroskopy Olympus BX61 byly vyvinuty na základě špičkových optických a zobrazovacích technologií, aby splňovaly požadavky různých oblastí použití v materiálových vědách.

Společnost Olympus se zaměřuje na výrobu mikroskopů a celých systémů, které vás podpoří na všech úrovních

Řada BX61TRF/BX-RLAA/U-AFA2M/DP

Mikroskop BX61 je speciálně navržen pro práci s laserovým automatickým zaostřováním. S přesným zaostřením a aktivním sledováním mohou uživatelé zrychlit provádění rutinních kontrol. Doplňková nastavení, jako např. úroveň osvětlení, výběr objektivu a nastavení apertury, lze nastavit pomocí tlačítek integrovaných v rámu mikroskopu, pomocí klávesnice nebo přes počítač. Řada motorizovaných modulů zahrnující držáky objektivů a osvětlovací systémy vám umožní úplnou flexibilitu při konfiguraci vašeho systému.

Vynikající ostrost snímků a mimořádně vysoké rozlišení

Vyberte si z řady objektivů a přizpůsobte si systém přesně na míru

Společnost Olympus nabízí širokou škálu objektivů, které splňují požadavky všech pozorovacích technik. Z naší rodiny více než 150 objektivů si můžete vybrat ten správný objektiv pro vaši aplikaci. Věrnost barev je důležitá pro přesnou a efektivní kontrolu. Řada objektivů UIS2 poskytuje přirozenou reprodukci barev kombinací pečlivě vybraného vysoce propustného skla a pokročilé technologie povrchové úpravy.

Ukázkové obrázky pozorování

Magnetická hlava (Světlé pole)

DVD (Světlé pole)

Wafer (Fluorescence)

Barevný filtr (Přenos)

Rozmanitá nabídka vám umožňuje výběr na základě zamýšleného použití
MPLAPON	Řada rovinných apochromatických objektivů
MPLFLN	Řada poloapochromatických objektivů pro pozorování ve světlém poli
MPLFLN-BD	Řada poloapochromatických objektivů pro pozorování ve světlém i tmavém poli
MPLFLN-BDP	Řada Semiapochromatických objektivů pro pozorování ve světlém poli, temném poli a ve fázovém kontrastu
LMPLFLN	Řada poloapochromatických objektivů s dlouhou pracovní vzdáleností pro pozorování ve světlém poli
LMPLFLN-BD	Řada poloapochromatických objektivů s dlouhou pracovní vzdáleností pro pozorování ve světlém i tmavém poli
MPLN	Řada rovinných achromatických objektivů pro pozorování ve světlém poli
MPLN-BD	Řada rovinných achromatických objektivů pro pozorování ve světlém i tmavém poli
SLMPLN	Řada Planachromatických objektivů se super dlouhou pracovní vzdáleností
LCPLFLN-LCD	Řada Semiapochromatických objektivů s dlouhou pracovní vzdáleností pro LCD
LMPLN-IR/LCPLN-IR	Řada Planachromatických objektivů s dlouhou pracovní vzdáleností pro blízké infračervené světlo

> Kliknutím zde získáte podrobné informace o objektivech UIS2

Softwarová řešení

Vytvořená pro snadnou práci s digitálními kamerami a softwarem pro analýzu obrazu

Naše ucelená řada digitálních kamer nabízí pozorování ve vysokém rozlišení a rychlý přenos obrazu, zatímco náš pokročilý software obrazové analýzy OLYMPUS poskytuje uživatelům různé možnosti a nástroje, potřebné pro nejsložitější metalurgické požadavky současné doby. Vyberte si ze specifických modulů pro rozšířené měření, standardní metalografii i pokročilou metalografii (více než tucet specifických rutin) a automaticky vyplňte data a vytvářejte zprávy v souladu s nejčastěji používanými standardy ASTM a ISO, a to vše pouze pomocí několika kliknutí myší.

> Kliknutím zde zobrazíte nabídku digitálních kamer Olympus

> Kliknutím sem zobrazíte nabídku softwarových možností Olympus

Specifikace

Optický systém	Optický systém UIS2 (s korekcí na nekonečno)
Rám mikroskopu > Osvětlení	odražené/procházející
Rám mikroskopu > Osvětlení	Externí světlený zdroj 12 V 100 W Světelný spínač s předvolbou LED ukazatel napětí Přepínač odraženého / procházejícího světla
Rám mikroskopu > ostření	Motorizované ostření Zdvih 25 mm Minimální krok: 0.01 μm
Rám mikroskopu > Max. výška vzorku	25 mm (bez vymezovací podložky)
Pozorovací tubusy > Široké zorné pole (F.N. 22)	Invertovaný: binokulární, trinokulární, naklápěcí binokulární Vzpřímený: trinokulární, naklápěcí binokulární
Pozorovací tubusy > Super široké zorné pole (F.N. 26,5)	Invertovaný: trinokulární Vzpřímený: trinokulární, naklápěcí trinokulární
Osvětlení pro odražené světlo > světlé pole atd.	BX-RLAA Motorizované přepínání světlého/temného pole Motorizovaná aperturní clona
Osvětlení pro odražené světlo > Odražené fluorescence	BX-RFAA 6-ti pozicový motorizovaný karusel Vestavěná motorizovaná uzávěrka s polní a aperturní clonou
Procházející světlo	100 W halogenové Abbe / kondenzátory s dlouhou pracovní vzdáleností Vestavěné filtry procházejícího světla (LBD, ND25, ND6)
Otočný držák objektivů > pro světlé pole	6-ti četný motorizovaný
otočný držák objektivů > pro SP/TP	5-ti četný motorizovaný, 6-ti četný motorizovaný, 5-ti četný centrovatelný
Stolky	Koaxiální stolek s rukojetí vlevo (vpravo): 76 (X) x 52 (Y) mm, s nastavením točivého momentu Velký koaxiální stolek s rukojetí vlevo (vpravo): 100 (X) x 105 (Y) mm, se zajišťovacím mechanismem v ose Y
Rozměry	Cca 318 (Š) x 602 (H) x 541 (V) mm
Hmotnost	Cca 25,5 kg (Rám mikroskopu 11,4 kg)

Typické aplikace - obrázky

BX61 Gets You the Image You Want

Darkfield

Surface mounting board

Darkfield lets you observe scattered or diffracted light from the specimen. The light from the lamp travels through ring-form illumination optics in the illuminator and is focused on the specimen. The light from the specimen is reflected only by imperfections in the z axis. The user can identify the existence of even a minute scratch or flaw down to the 8 nm level--smaller than the resolving power limit of an optical microscope. Darkfield is ideal for detecting minute scratches or flaws on a specimen and examining mirror surface specimens, including wafer.

Polarized Light

Asbestos

This microscopic observation technique utilizes polarized light generated by a set of filters (analyzer and polarizer). The characteristics of the sample directly affect the intensity of the light reflected through the system. It is suitable for metallurgical structures (i.e., growth pattern of graphite on nodular casting iron), minerals, and LCDs and semiconductor materials.

Differential Interference Contrast (DIC)

Magnetic head

DIC is a microscopic observation technique in which the height difference of a specimen not detectable with brightfield becomes a relief-like or three-dimensional image with improved contrast. This technique, based on polarized light, can be fitted to your needs with a choice of three specially designed prisms. It is ideal for examining specimens with very minute height differences, including metallurgical structure, minerals, magnetic heads, and hard-disk media and polished wafer surfaces.

Fluorescence

Particle on semiconductor wafer

This technique is used for specimens that fluoresce (emit light of a different wavelength) when illuminated with a specially designed filter module that can be tailored to your application. It is suitable for inspection of contamination on semiconductor wafers, photo-resist residues, and detection of cracks through the use of fluorescent dye. An optional apochromatic lamp house collector lens system can be added to compensate for chromatic aberrations from visible light to near-infrared light.

Transmitted Light Observation

LCD color filter

For transparent samples such as LCDs, plastics and glass materials, true transmitted light observation is available by using a variety of transmitted light condensers. You can examine your samples in brightfield, darkfield, DIC, and polarized imaging in transmitted light, all in one convenient system.

BX61