Wir haben eine neue Fertigungstechnologie verwendet, um Objektive zu entwickeln, bei denen die numerische Apertur, der Arbeitsabstand und die Planität optimiert wurden. Eine hohe numerische Apertur (NA) und ein Arbeitsabstand von 3 mm verbessern das Sichtfeld und die Bildqualität von der Mitte bis zum Rand des Bildes, was einen höheren Durchsatz bei der automatisierten Prüfung von Halbleitern ermöglicht. Es sind 20X- und 50X-Hellfeldobjektive verfügbar.

MX Plan Semi-Apochromate mit hoher numerischer Apertur und großem Arbeitsabstand – MXPLFLN

• Ausgelegt für Hellfeld, differenziellen Interferenzkontrast (DIC), Fluoreszenz und einfache Mikroskopieverfahren mit polarisiertem Licht
• Kombiniert eine hohe NA, einen großen Arbeitsabstand und eine Planität 
• In 20-facher und 50-facher Vergrößerung mit einem Arbeitsabstand von 3 mm verfügbar 

MXPLFLN50X
Das MXPLFLN50X ist unser erstes 50X-Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,8 und einem Arbeitsabstand von 3 mm. Im Vergleich zu einem LMPLFLN100X-Objektiv ist das Sichtfeld dank der 0,8 NA bei 50-facher Vergrößerung viermal größer.

MXPLFLN20X
Das MXPLFLN20X ist unser erstes 20X-Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,6 und einem Arbeitsabstand von 3 mm. Die hohe NA und hohe Planität erzeugen homogene Bilder, die sich zum Stitching eignen.