Evident propose une large gamme de composants optiques qui peuvent être combinés à divers appareils d’imagerie au microscope dans des domaines comme la recherche en sciences de la vie, les soins médicaux ou encore l’industrie de la fabrication.
Pour aider les concepteurs d’équipements à optimiser leurs appareils, nous cherchons constamment à développer des objectifs dotés des dernières avancées technologiques. Dans cette approche, nous avons récemment étudié de quelles façons la technologie des objectifs peut améliorer la cadence des inspections industrielles.
La cadence (c’est-à-dire le nombre d’inspections pouvant être effectuées dans un délai donné) représente un défi courant pour les concepteurs qui développent des dispositifs d’inspection de semi-conducteurs, d’écrans plats et de diodes électroluminescentes organiques (OLED). Cet article traite d’une série d’objectifs récemment développée, capable d’améliorer la cadence des inspections.
Dépasser les limites de cadence pour les inspections de wafers de semi-conducteurs
De façon générale, un objectif présentant une distance focale assez courte doit être utilisé pour obtenir la résolution souhaitée pour l’inspection des wafers. Il est nécessaire de rétracter la tourelle porte-objectifs lors de l’échange des wafers lorsqu’on utilise un objectif à courte distance focale, car la courte distance entre l’objectif et le wafer peut entraîner une collision. Cependant, le temps nécessaire pour monter et descendre la tourelle porte-objectifs du microscope lors de l’échange de wafers augmente le temps d’inspection global et limite la cadence.
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Comparaison d’objectifs avec des distances focales courte et grande (à gauche : distance de travail de 1 mm, à droite : distance de travail de 3 mm), mais avec le même grossissement et la même ouverture numérique. L’objectif avec une distance focale plus grande (celui de droite) offre plus d’espace entre l’objectif et l’échantillon, réduisant ainsi le risque de collision.
Nos clients souhaitaient que leurs appareils permettent d’obtenir des images à haute résolution et d’assurer un changement rapide d’échantillon de wafers, de cartes d’alimentation d’écrans plats et d’autres échantillons, le tout sans qu’ils aient à rétracter ou à changer l’objectif.
Pour répondre à ces exigences, il fallait un objectif caractérisé à la fois par une grande distance focale et une haute résolution, ce qui représentait un défi. Normalement, la distance focale d’un objectif diminue à mesure que son grossissement et son ouverture numérique (résolution) augmentent : notre gamme d’objectifs existante était donc divisée en objectifs à haute résolution et en objectifs à grande distance focale.
Nous avons décidé de créer une nouvelle série d’objectifs pour offrir aux clients ce qu’ils recherchaient : une haute résolution et une grande distance focale simultanément. Cette innovation a abouti à notre nouvelle série d’objectifs MXPLFLN.
Présentation de la série d’objectifs MXPLFLN pour les inspections à haute cadence
Notre nouvelle série MXPLFLN permet d’obtenir des images en haute résolution avec un champ d’observation élargi et une grande planéité (uniformité de l’image du centre jusqu’aux bords). Ces caractéristiques sont idéales pour l’assemblage d’images. Un champ d’observation élargi permet d’avoir moins d’images à assembler pour couvrir l’ensemble de la zone d’inspection, et les images plates en haute résolution peuvent être assemblées sans difficulté. En termes de planéité, cette série d’objectifs est conçue pour atteindre des performances optimales en combinaison avec notre nouvelle lentille de tube U-SWATLU. Nous vous recommandons de les combiner pour améliorer encore la cadence.
Lentille de tube U-SWATLU
Notre série MXPLFLN présente des objectifs de grossissement 20X et 50X. Ces deux grossissements sont disponibles en mode fond clair uniquement ou en mode fond clair/fond noir. Examinons leurs caractéristiques.
Objectifs MXPLFLN20X et MXPLFLN20XBD 20X
Grâce à notre nouvelle technologie de fabrication, la version en fond clair de l’objectif 20X (MXFPLFLN20X) offre une ouverture numérique plus grande, ayant passé de 0,45 à 0,6, avec une distance focale accrue de 3 mm. Il s’agit de notre premier objectif 20X à atteindre une ouverture numérique de 0,6 et une distance focale de 3 mm simultanément. Notre version fond clair/fond noir de l’objectif 20X (MXPLFLN20XBD) offre également une distance focale de 3 mm tout en offrant une ouverture numérique améliorée de 0,55.
Les objectifs MXPLFLN 20X sont dotés d’une ouverture numérique améliorée, tout en maintenant une grande distance focale.
Objectifs MXPLFLN50X et MXPLFLN50XBD 50X
L’objectif MXPLFLN50X est notre premier objectif 50X à atteindre une ouverture numérique de 0,8 et une distance focale de 3 mm simultanément. Jusqu’à présent, l’objectif LMPLFLN100X était la seule option disponible pour une haute résolution et une grande distance focale dans un même objectif. Aujourd’hui, le nouvel objectif MXPLFLN50X associe haute résolution et grande distance focale. Il fournit également un champ d’observation 4X plus grand que l’objectif LMPLFLN100X. Ce champ d’observation élargi permet de réduire les temps d’inspection pour une meilleure cadence opérationnelle. Un type d’objectif pour faible luminosité a également été ajouté à la série.
 LMPLFLN100X (ouverture numérique : 0,8, distance de travail : 3,4 mm) |  MXPLFLN50X (ouverture numérique : 0,8, distance de travail : 3 mm) |
Comparaison du champ d’observation. L’objectif MXPLFLN50X (à droite, grossissement de 50X) possède un champ d’observation plus grand que l’objectif LMPLFLN100X (à gauche, grossissement de 100X), ce qui permet un assemblage d’images plus rapide.
Une technologie de fabrication de pointe derrière la série d’objectifs MXPLFLN
Forte d’une longue expérience dans le domaine de la conception optique, Evident est reconnue pour produire des objectifs de haute qualité. Après avoir réussi à mettre au point des objectifs ayant une distance focale de 3 mm, nous avons utilisé notre expertise en conception pour parvenir à obtenir des images en haute résolution à cette distance focale.
L’obtention d’une haute résolution et d’une grande distance focale dans un objectif nécessite traditionnellement un grand diamètre d’objectif et une plus grande hauteur de rayon. Pour résoudre ce problème, nous avons développé notre nouvelle série d’objectifs MXPLFLN avec un nouveau matériau en verre, qui intègre plusieurs types de verre à faible dispersion, désormais standard dans nos objectifs haute résolution haut de gamme. Les objectifs sont également dotés d’un verre à dispersion spécial, rarement employé dans les objectifs utilisés en microscopie à lumière réfléchie ou dédiés aux analyses métallographiques. Ce verre corrige efficacement les aberrations chromatiques longitudinales et latérales.
En outre, en utilisant notre technologie d’objectifs ultra-fins développée pour la série d’objectifs X Line™ haute performance, nous avons pu obtenir une haute résolution et une grande planéité pour une meilleure qualité d’image. Notre processus de fabrication d’objectifs respecte également des normes strictes pour garantir une qualité de produit constante. Cela passe par l’utilisation de la technologie de contrôle des aberrations du front d’onde pour limiter les variations de performances optiques des objectifs.
Apprenez-en plus sur les objectifs MXPLFLN et les autres composants optiques de haute qualité
Pour en savoir plus sur les avantages d’une utilisation des objectifs MXPLFLN pour les inspections de semi-conducteurs et d’autres applications, regardez la vidéo ci-dessous :
Nous proposons également une gamme d’autres composants optiques de haute qualité qui peuvent être combinés à vos appareils. Rendez-vous dans notre centre de ressources OEM pour trouver de la documentation, des outils et une FAQ sur la conception d’instruments optiques avancés.
