Panoramica

Obiettivo con distanza di lavoro super lunga

Offre una distanza di lavoro lunga tra l'obiettivo e il campione
Adatto all'osservazione di campioni con ampie irregolarità quali stampi e parti in metallo

	Distanza di lavoro (mm)	Ingrandimento _{*Basato su un monitor 27 pollici}	Campo visivo (μm)	Apertura numerica
DSX10-SXLOB1X
	51,7	23 - 164X	19.200 - 2.740	0,03
	_{*DSX10-SXLOB1X non supporta l'osservazione PO}
DSX10-SXLOB3X
	66,1	49 - 493X	9.100 - 910	0,09
	_{*DSX10-SXLOB3X non supporta l'osservazione PO}
DSX10-SXLOB10X
	41,1	164 - 1644X	2.740 - 270	0,2
	_{*DSX10-SXLOB10X non supporta l'osservazione PO}

	Distanza di lavoro (mm)	Ingrandimento _{*Basato su un monitor 27 pollici}	Campo visivo (μm)	Apertura numerica
DSX10-XLOB3X
	30	49 - 493X	9.100 - 910	0,09
	_{*DSX10-XLOB3X non supporta l'osservazione PO}
DSX10-XLOB10X
	30	164 - 1644X	2.740 - 270	0,3

DSX10-XLOB20X
	20	320 - 3280X	1.370 - 140	0,4

DSX10-XLOB40X
	4,5	650 - 6570X	690 - 70	0,8

Offre prestazioni elevate su scala nanometrica
Osservazione di campioni che richiedono una maggiore risoluzione quali wafer e semiconduttori

	Distanza di lavoro (mm)	Ingrandimento _{*Basato su un monitor 27 pollici}	Campo visivo (μm)	Apertura numerica
MPLFLN1.25X
	3,5	26 - 206X	17.100 - 2.190	0,04
	_{*MPLFN1.25X supporta solo l'osservazione BF e OBQ}
MPLFLN2.5X
	10,7	44 - 411X	10.200 - 1.100	0,08
	_{*MPLFN2.5X supporta solo l'osservazione BF e OBQ}
MPLFLN5XBDP
	12	82 - 822X	5.480 - 550	0,15

MPLFLN10XBDP
	6,5	164 - 1644X	2.740 - 270	0,25

MPLFLN20XBDP
	3	320 - 3280X	1.370 - 140	0,4

MPLFLN50XBDP
	1	820 - 8220X	550 - 55	0,75

MPLAPON50X
	0,35	820 - 8220X	550 - 55	0,95
	_{*MPLAPON50X non supporta l'osservazione DF e MIX}
LMPLFLN10XBD
	10	164 - 1644X	2.740 - 270	0,25

LMPLFLN20XBD
	12	320 - 3280X	1.370 - 140	0,4

LMPLFLN50XBD
	10,6	820 - 8220X	550 - 55	0,5