Opis

Obiektyw o wyjątkowo dużej odległości roboczej

Zapewnia dużą odległość roboczą między obiektywem a próbką
Odpowiedni do obserwacji próbek o dużych nierównościach powierzchni, takich jak części formowanych i metalowych

	Odległość robocza (mm)	Powiększenia	Pole widzenia (μm)	Apertura numeryczna
DSX10-SXLOB1X
	51,7	20–200X	13118–1874	0,03
	_{*Obiektyw DSX10-SXLOB1X nie obsługuje obserwacji PO}
DSX10-SXLOB3X
	66,1	42–420X	6247–625	0,09
	_{*Obiektyw DSX10-SXLOB3X nie obsługuje obserwacji PO}
DSX10-SXLOB10X
	41,1	140–1400X	1874–187	0,2
	_{*Obiektyw DSX10-SXLOB10X nie obsługuje obserwacji PO}

	Odległość robocza (mm)	Powiększenia	Pole widzenia (μm)	Apertura numeryczna
DSX10-XLOB3X
	30	42–420X	13118–1874	0,09
	_{*Obiektyw DSX10-XLOB3X nie obsługuje obserwacji PO}
DSX10-XLOB10X
	30	140–1400X	1874–187	0,3

DSX10-XLOB20X
	20	280–2800X	937–94	0,4

DSX10-XLOB40X
	4,5	560–5600X	468–47	0,8

Zapewnia wysoką wydajność w skali nano
Odpowiedni do obserwacji próbek, które wymagają wyższej rozdzielczości, takich jak półprzewodniki i wafle

	Odległość robocza (mm)	Powiększenia	Pole widzenia (μm)	Apertura numeryczna
MPLFLN5XBDP
	12	70–700X	2915–375	0,15

MPLFLN10XBDP
	6,5	140–1400X	1458–187	0,25

MPLFLN20XBDP
	3	280–2800X	729–94	0,4

MPLFLN50XBDP
	1	700–7000X	292–37	0,75

MPLAPON50X
	0,35	700–7000X	292–37	0,95
	_{*Obiektyw MPLAPON50X nie obsługuje obserwacji DF i MIX}
LMPLFLN10XBD
	10	140–1400X	1458–187	0,25

LMPLFLN20XBD
	12	280–2800X	729–94	0,4

LMPLFLN50XBD
	10,6	700–7000X	292–37	0,5