Описание

Объектив со сверхдлинным рабочим расстоянием

Обеспечивает большое рабочее расстояние между линзой и наблюдаемым объектом
Используется для осмотра неравномерных образцов (металлических деталей, отливок)

	Рабочее расстояние (мм)	Коэфф. увеличения _{*на 27-дюйм. мониторе}	Поле зрения (мкм)	Числовая апертура
DSX10-SXLOB1X
	51,7	23–164X	19 200–2 740	0,03
	_{*DSX10-SXLOB1X не поддерживает метод наблюдения в поляризованном свете (PO)}
DSX10-SXLOB3X
	66,1	49–493X	9 100–910	0,09
	_{*DSX10-SXLOB3X не поддерживает наблюдение в поляризованном свете (PO)}
DSX10-SXLOB10X
	41,1	164–1644X	2 740–270	0,2
	_{*DSX10-SXLOB10X не поддерживает наблюдение в поляризованном свете (PO)}

	Рабочее расстояние (мм)	Коэфф. увеличения _{*на 27-дюйм. мониторе}	Поле зрения (мкм)	Числовая апертура
DSX10-XLOB3X
	30	49–493X	9 100–910	0,09
	_{*DSX10-SXLOB3X не поддерживает наблюдение в поляризованном свете (PO)}
DSX10-XLOB10X
	30	164–1644X	2 740–270	0,3

DSX10-XLOB20X
	20	320–3280X	1 370–140	0,4

DSX10-XLOB40X
	4,5	650–6570X	690–70	0,8

Обеспечивает высокую эффективность измерения на наноуровне
Подходит для наблюдения объектов, требующих высокого разрешения (например, полупроводниковых пластин)

	Рабочее расстояние (мм)	Коэфф. увеличения _{*на 27-дюйм. мониторе}	Поле зрения (мкм)	Числовая апертура
MPLFLN1.25X
	3,5	26–206X	17 100–2 190	0,04
	_{*MPLFN1.25X поддерживает только наблюдение с темнопольным (BF) и косым (OBQ) освещением}
MPLFLN2.5X
	10,7	44–411X	10 200–1 100	0,08
	_{*MPLFN2.5X поддерживает только наблюдение с темнопольным (BF) и косым (OBQ) освещением}
MPLFLN5XBDP
	12	82–822X	5 480–550	0,15

MPLFLN10XBDP
	6,5	164–1644X	2 740–270	0,25

MPLFLN20XBDP
	3	320–3280X	1 370–140	0,4

MPLFLN50XBDP
	1	820–8220X	550–55	0,75

MPLAPON50X
	0,35	820–8220X	550–55	0,95
	_{*MPLAPON50X не поддерживает методы наблюдения DF и MIX}
LMPLFLN10XBD
	10	164–1644X	2 740–270	0,25

LMPLFLN20XBD
	12	320–3280X	1 370–140	0,4

LMPLFLN50XBD
	10,6	820–8220X	550–55	0,5