Мы использовали новую технологию производства для создания объективов с одновременно улучшенной числовой апертурой, рабочим расстоянием и плоскостностью изображения. Высокая числовая апертура (NA) и рабочее расстояние 3 мм улучшают поле зрения и качество изображения от центра до края, обеспечивая высокую производительность при автоматизированном контроле полупроводников. Доступны объективы для светлого поля с увеличением 20X и 50X.

Полуапохроматические объективы MX Plan с высокой числовой апертурой и большим рабочим расстоянием – MXPLFLN

• Предназначены для светлого поля, дифференциально-интерференционного контраста (ДИК), флуоресценции и наблюдения в поляризованном свете.
• Сочетает в себе высокую числовую апертуру, большое рабочее расстояние и плоскостность изображения.
• Доступны варианты увеличения 20X и 50X с рабочим расстоянием 3 мм.

MXPLFLN50X
MXPLFLN50X — наш первый объектив с 50-кратным увеличением, числовой апертурой 0,8 и рабочим расстоянием 3 мм.По сравнению с объективом LMPLFLN100X поле зрения в 4 раза больше благодаря числовой апертуре 0,8 при 50-кратном увеличении.

MXPLFLN20X
MXPLFLN20X — наш первый объектив с 20-кратным увеличением, числовой апертурой 0,6 и рабочим расстоянием 3 мм.Высокая числовая апертура и улучшенная плоскостность позволяют получать однородные изображения, которые идеально подходят для сшивки.